场发射扫描电镜应用原理

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场发射扫描电镜原理

利用细聚焦高能量电子束，在扫描线圈磁场的控制下，电子束在样品表面逐点扫描，激发出二次电子、背散射电子等物理信号，经探测器收集、放大器放大后，将信号一一对应地在显示屏上的相应各点调制成像，从而获得样品表面的放大图像。采用场发射电子光源可获得更高的分辨率和更优秀的成像质量。

分辨率：0.8nm@15kV，1.4nm@1kV

加速电压：0.02~30kV

束流：10pA~300nA

放大倍率：12~2000000

探测器：镜筒内二次电子探测器in-lens，二次电子探测器SE2，能量选择背散射探测器EsB，角度选择背散射探测器AsB，透射探测器STEM

样品台：5轴电动优选中心样品台，X=130mm，Y=130mm，Z=50mm，T=-3~70度，R=360度

附件：能谱仪，镀膜仪

应用：扫描电子显微镜具有辩率高、景深大、成像立体感强的特点，能同时分析形貌和成分，可用于形貌观察、显微结构分析、微区成分分析、断口形貌和成分分布分析等，还可进行样品的原位动态观察和特定环境实验，在材料、纳米科学、地质、矿产、冶金、机械、化学、化工、物理、电子、生物、医学等领域都有广泛的用途。

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