X射线光电子能谱仪主要用途是什么?

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X射线光电子能谱仪主要用途是什么?

X射线光电子能谱仪,是一种表面分析技术,主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线,如Al Ka =1486.6eV,与样品表面相互作用,利用光电效应,激发样品表面发射光电子,利用能量分析器,测量光电子动能(K.E),根据B.E=hv-K.E-W.F,进而得到激发电子的结合能(B.E)。

X射线光电子能谱仪主要用途:

XPS:固体样品的表面组成分析,化学状态分析,取样讯息深度为~10nm以内. 功能包括:

1.表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。

2.维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析(角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式)

3.线扫描或面扫描以得到线或面上的元素或化学态分布。

4.成像功能。

5.可进行样品的原位处理 AES:1.可进行样品表面的微区选点分析(包括点分析,线分析和面分析) 2.可进行深度分析适合: 纳米薄膜材料,微电子材料,催化剂,摩擦化学,高分子材料的表面和界面研究

仪器分类

03030707 /仪器仪表 /成份分析仪器

指标信息: 主真空室:1×10-10 Torr XPS:0.5eV, AES: 分辨率:0.4%, 电子枪束斑:75nm , 灵敏度:1Mcps信噪比:大于70:1 角分辨:5°~90°. A1/Mg双阳极靶 能量分辨率:0.5eV ,灵敏度:255KCPS, 使用多通道检测器(MCD)


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